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RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)是在真空系統(tǒng)中利用分子氣體等離子來(lái)進(jìn)行刻蝕的，利用了離子誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)來(lái)實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕，即是利用離子能量來(lái)使被刻蝕層的表面形成容易刻蝕的損傷層和促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)，同時(shí)離子還可清除表面生成物以露出清潔的刻蝕表面的作用。RIE反...

紫外臭氧清洗機(jī)的工作原理基于紫外線(UV)與臭氧(O2)的協(xié)同作用。紫外線照射能夠激發(fā)空氣中的氧氣分子(O2)，使其分解為氧原子(O)，隨后這些氧原子與周?chē)难鯕夥肿咏Y(jié)合，生成臭氧。臭氧作為一種強(qiáng)氧化劑，能夠迅速與材料表面的有機(jī)污染物發(fā)生化...

紫外臭氧清洗機(jī)是一款用于無(wú)機(jī)基材表面有機(jī)污染物去除的表面清洗設(shè)備，能夠簡(jiǎn)單，經(jīng)濟(jì)，快速獲得超潔凈表面。紫外臭氧清洗機(jī)的選購(gòu)注意要點(diǎn)：1.清洗面積：根據(jù)實(shí)際需要清洗的基片或物品的大小，選擇具有合適有效清洗面積的清洗機(jī)。2.清洗效果：關(guān)注清洗機(jī)...

低溫等離子有機(jī)質(zhì)去除儀被廣泛應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域中，如化工業(yè)、造紙業(yè)、制藥業(yè)等，用于去除異味、惡臭及有機(jī)質(zhì)，其使用流程包括開(kāi)機(jī)前的準(zhǔn)備、開(kāi)機(jī)與預(yù)熱、運(yùn)行與監(jiān)控、停機(jī)與清理以及注意事項(xiàng)等多個(gè)環(huán)節(jié)，只有嚴(yán)格按照流程操作，才能確保設(shè)備的正常運(yùn)行。低溫等...

粉體在生產(chǎn)和加工過(guò)程中，往往會(huì)附著一些難以清洗的污垢和氧化物，這些污垢和氧化物會(huì)影響粉體的質(zhì)量和使用效果。粉體等離子清洗機(jī)能夠通過(guò)等離子體的化學(xué)反應(yīng)原理，將這些污垢和氧化物分解并清洗掉，從而提高粉體的質(zhì)量和使用效果。粉體等離子清洗機(jī)就是在常...

RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的工作原理基于化學(xué)反應(yīng)和物理離子轟擊的雙重作用。在一個(gè)真空環(huán)境中，通過(guò)高頻電場(chǎng)的作用，激發(fā)腐蝕氣體分子，使之形成等離子體。這些高能等離子體與樣品表面發(fā)生劇烈的物理轟擊和化學(xué)反應(yīng)，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面的高精度刻蝕。具體來(lái)說(shuō)，...

低溫等離子有機(jī)質(zhì)去除儀的原理主要基于低溫等離子技術(shù)，這是一種通過(guò)導(dǎo)電介質(zhì)在電極周?chē)纬梢粋€(gè)高度聚集的等離子體區(qū)的技術(shù)。當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的放電電壓時(shí)，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體，這種混合體即為低溫等離子體。...

掃描電鏡等離子清洗機(jī)是一款專(zhuān)為掃描電子顯微鏡（SEM）樣品準(zhǔn)備而設(shè)計(jì)的高效清洗設(shè)備。該機(jī)利用等離子體技術(shù)，通過(guò)活性氣體的激發(fā)，去除樣品表面的有機(jī)污染物和微塵，確保樣品在顯微觀察中的清潔和高質(zhì)量成像。掃描電鏡等離子清洗機(jī)的工作原理主要基于等離...